硅靶材 单晶硅靶材、多晶硅靶材、喷涂硅管靶 

纯度： 99.9-99.999% 硅靶材

尺寸： 

● 尺寸 01 ：直径 360mm 厚度 1mm （形状：圆片 / 圆台 / 圆棒）；

 ● 尺寸 02 ：长度 600mm 宽度 400mm 厚度 1m

      制作工艺

真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工；也可硅旋转靶采用等离子喷涂或者烧结绑定工艺，硅平面靶采用拉晶生长工艺。

应用领域：薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，半导体工业，工具及装饰镀膜工业。