销售氧化硅片，大量现货。

1. 尺寸:1,2,3,4,5,6,8,12英寸;定制尺寸、切割小块;

2. 晶向:100、111等;

3. 3.氧化层SiO2膜厚:较薄:25nm、50nm等;常规100-500nm;厚1um、2um;超厚>3um~10um;

4.表面:单面抛光双面氧化、单片抛光单面氧化、双面抛光双面氧化;

5.类型:N型、P型、非掺杂高阻;

6.电阻率:<0.0015~1等低阻区、1-10Ω.cm中阻区、>1000~10000高阻区;

7.工艺:热氧化工艺，也可PECVD加工;

 8.应用:刻蚀钝化层、金属打线测试、电性绝缘层、涂胶、器件层等。

 9.供货能力:大量现货、参数齐全;

10.订制能力:各种参数均可订制。